半导体封装废水怎么处理方法|半导体封装废水处理案例
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该单位隶属于浙江省郑州市,基本进行高半导体材料集成电路芯片的封装类型软件测试,日排卸废需水量约200吨。鉴于工作过程中中便用多种不同制剂学制剂,污废水 有效成分多样化,内含高酸度铜、镍等血本属或者环氧防锈漆硅橡胶、光刻胶等有机化学弄脏物。单位原本有清理的设施时未考虑公布排卸标准化,人们非常晋升改建。
生产废水的成分及种类
化学镀污水
:原因于集成ic引脚电镀层制作工艺,所含铜、镍、锡等高价属阴阳离子,pH值振幅大。
巧妙废水处理方法
:主要来装封胶应用、光刻工艺流程,包含环氧漆光敏树脂、异丙醇、异丙醇等有机化学稀释剂。
酸碱度化工废水
:发生于晶圆擦洗和蚀刻制作工艺,含带氢佛酸、盐酸、氢防氧化钠等。
治理 方法流程步骤
预整理阶段中
碱酸中合
:在投加体统上下调整pH至6-9,规避前因后果除理机器设备生锈。
混凝土析出
:添加PAC(汇聚氯化铝)和PAM(pe塑料酰胺),弄掉悬屏物和有些巨资属。
中心处置的时候
高端氧化物
:主要采用Fenton生化试剂(H₂O₂+Fe²⁺)葡萄糖氧化难光降解有机质物,COD去掉率达70%这。
膜过虑
:反融合装置(UF)+反融合(RO)三人组合施工工艺,进步骤虚报冒领巨资属和溶解度性无机物。
进一步外理环节
阴离子更换
:专门重视重视铜、镍铝离子,加强组织领导出水出水巨资属量少于0.5mg/L。
离心分离性炭离心分离
:做为之后保证,我们要除农药残留氢化物发生器有机的物。
进而效果好
经补救后,留水饮用水量质起到《电商化工业水被污染的物排出要求》(GB 39731-2020):COD<50mg/L、铜<0.3mg/L、镍<0.1mg/L,工业废水处理率大幅提升至60%,年年省下用水量成本低约80W。