半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
工程历史背景
该企业公司职业的生产半导体材料用高纯氟化氢和六氟化钨,污废水 氟密度相当高且的成分较为复杂。原先的净化净化办理工学艺疗效不动态平衡,氟化物排放出经常过高。投资加盟投资金额加盟2300万元鑫霖环保特定净化净化办理设备,的设计净化净化办理作用500吨/天。
焦化废水成分表及源
污水具体原于生产方式设施进行维护清洁和印刷废气洗滌:
氟正离子溶液浓度:1500-3500mg/L
含磷酸根亚铁离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含少量钨、钼等铝合金事物
治理工艺设计步骤
涉及高密度优势,运用"结合+单级乳浊液+膜治疗"工艺设备:
废气获得池:的分类获得不一样的溶度废气
中合反馈池:分时段.添加氢钝化物钠和氢钝化物钙,调节从而pH至7.5-8.
二沉池的反应池:添加PAC和PAM不断增强水解使用效果
斜管滤渣池:优质固液区分
多媒介滤出器:我们要除狗细小颗粒肥料
反渗入系统:程度脱盐和除氟
淤泥溶缩出现脱水处理整体:离心法出现脱水处理后淤泥清运职业 防范
上线污染监测系统软件:时实监管氟阴阳离子含量和pH值
终究目的
清理机系统自动运行数据统计:
存水氟阴离子的平均浓硫酸浓度:2800mg/L
水流氟铁离子密度:3.2mg/L(平衡)
氟剔除率:99.9%上述
水使用率:提升65%
模式一键化层度高,保证废气补救成本费减轻30%,年回收分类处理氟化钙副护肤品约400吨。