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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆加工制作厂为于华南区县,核心工作8英尺半导体器件晶圆,平均废液排卸物量约800吨。因此工作步骤中施用许多氢佛酸做出晶圆蚀刻,造成废液中氟化物盐浓度敢达200-300mg/L,远超的国家排卸物标准单位(10mg/L接下来)。 废水处理化学物质及由来 电镀废水一般出自5个关键点: 晶圆蚀刻环节 :含高盐浓度氟化物(HF)、硝酸钠及少许天价属 化学反应机戒增加光泽(CMP)废污水 :含納米级硅小粒、有机会络合剂 环保设备除污焦化废水 :含异丙醇、氟化物等生产物 外理具体流程具体流程 采取"生物乳浊液+混泥土乳浊液+高度净化"三级职业资格证书加工系统的: 特一级清理 :添加氯化钙和氢脱色钙,造成氟化钙石雕文化沉淀,氟化物除掉率达85% 一级正确处理 :加入PAC(配位碱式氯化铝)和PAM(pe塑料酰胺),弄掉胶体溶液态影响物 三级视频处里 :经过多物料油烟净化器器和活性氧炭树脂吸附,出水量氟化物浓度值保持稳定在8mg/L下 重点的设备例如:pH自動调理软件系统、斜管沉定池、板框刮刀离心机(飞灰过滤)。 以后的效果 工程执行2年监测器统计资料凸显: 氟化物差不多渗透压:7.2mg/L(不超过国内标准规范) COD的还原率:92% 厌氧颗粒污泥含水分率:≤65% 年收集氟化钙副服务约150吨,体现資源化运用

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